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电子半导体超纯水制备工艺中为什么会设有TOC紫外线脱除器?
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       在电子半导体、晶圆、硅晶、芯片等产品的制造过程中,由于超纯水具有非常高的纯度和稳定性,能够满足半导体制造过程中对水质的高要求,所以这些生产中都会使用到超纯水。而超纯水中的TOC含量,是评估水中有机物含量的指标之一,对产品的质量和性能有着至关重要的影响。所以一般在这些行业的超纯水制备工艺中都会根据水质及生产需求设有TOC紫外线脱除器。


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       那么,我们到底为什么要使用TOC紫外线脱除器来降解超纯水中的TOC?那是因为如果超纯水中的TOC含量过高,会对电子半导体行业的生产造成一些不良的影响:


       1. 有机物和杂质残留在产品上,会导致电子元器件性能下降乃至失效。


       2. 有机物在特定条件下,会发生氧化反应,导致半导体材料氧化和腐蚀,损坏电子器件的结构和功能。


       3. 当有机物残留在水中时,会形成气泡或微小气体团附着在产品表面,损坏电子器件的结构和功能。


       4. 降低超纯水的清洁效果,无法有效去除表面的污染物和杂质。


       目前,华仕威的TOC紫外线脱除器,可以有效降解TOC,将超纯水TOC含量控制在行业安全范围内,以确保产品的品质和性能。


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